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產品列表

1100℃高溫高壓管式爐
此款爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計,最高壓力高達21MPa,最高溫度可達1100℃,并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品,這是一款理想的高溫管式爐。
1200℃雙溫區管式爐
1200℃雙溫區管式爐,其最高溫度可達到1200℃,并可通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制,而且都為PID30段程序化控溫。此系列管式爐可以用CVD方法來生長納米材料和制備各種薄膜。
1200℃三溫區管式爐
型號: T1280C 用途: 某些熱處理實驗有時需要一個或多個溫度梯度,比如CVD等鍍膜試驗。如此就會用到多溫區的管式爐。 規格: Φ60*1400mm 特點: 三個溫區分別控制,互不影響。
1200℃ mini型真空管式爐
型號: T1250S 用途: 物理/化學氣象沉積(CVD/PVD)實驗以及真空/氣氛保護燒結、納米材料制備等。 規格: Φ50*600mm 特點: 較小的爐膛不僅使得溫度控制更加精準而且具有好的穩定性
1100℃大口徑真空管式爐
型號: T12152C 用途: 此設備是專門為大工件或大批量熱處理生產而研發制造的。 規格: Φ152*1650mm 特點: 152mm超大管徑,1100mm超長溫區。
爐膛移動式管式爐
型號: CMT1200 用途: 主要用于快速升降溫領域。 規格: Φ60*1000mm 特點: 爐膛可以根據設定要求,不但可以實現自動左右移動,而且移動速度可人工調節。
1200℃單溫區真空管式爐
型號: T1260A 用途: 真空或氣氛保護狀態下燒結,CVD薄膜實驗等 規格: Φ50*1000,Φ60*1000,Φ80*1000,Φ100*1000 特點: 它集控制系統與爐膛為一體,外型精簡大方,爐膛可打開。
1200℃旋轉管式爐
型號: R1260A 用途: 主要用于電池正負極材料,無強酸堿性粉體材料,顆粒狀物料的實驗室煅燒及干燥。 規格: Φ60*1000 特點: 爐管可360度旋轉,有助于材料燒結更均勻。
RTP多功能快速退火爐
型號: RTP1100-M 用途: 真正的快速升溫和快速降溫
快速退火爐
型號: RTP1100 用途: 快速退火與鍍膜 規格: Φ100*200 特點: 快速升溫快速降溫
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